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鈣鈦礦電池激光刻蝕、劃線設(shè)備

鈣鈦礦電池激光刻蝕、劃線系統(tǒng)

導(dǎo)電銀漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳、碳粉、金、銀、銅、鋁等導(dǎo)電金屬、石墨烯、碳納米管、氧化物、鈣鈦礦電池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等鈣鈦礦電池材料激光刻蝕劃線處理

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可根據(jù)需求將整個(gè)加工部分置入手套箱內(nèi)加工


根據(jù)不同場(chǎng)景的需求,配置納秒脈寬的紅外光纖(1064nm)、綠光(532nm)波段光源;皮秒脈寬的紅外光纖(1064nm)、綠光(532nm)、紫外(355nm)波段光源;飛秒脈寬的紅外光纖(1030nm)、綠光(515nm)波段光源進(jìn)行微精細(xì)激光刻蝕、劃線、構(gòu)造去除、劃片、表面剝離等應(yīng)用。

 

適用于柔性PET/PI/PEN/玻璃等基底材料上的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池激光刻蝕劃線應(yīng)用。

 

玻璃、PETPI、PNT等基底上薄膜材料激光刻蝕,應(yīng)用于觸摸屏、光伏太陽(yáng)能電池、電至色玻璃等行業(yè)。

 

適用于導(dǎo)電銀漿、ITOFTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳、碳粉、金、銀、銅、鋁等導(dǎo)電金屬、石墨烯、碳納米管、氧化物、鈣鈦礦電池Spiro-OMeTAD、PerovskiteSnO2、C60、PCBM等材料處理。特別是針對(duì)鈣鈦礦電池領(lǐng)域的陰電極、鈣鈦礦空穴傳輸層、阻擋層、鈣鈦礦層、陽(yáng)電極激光刻蝕劃線技術(shù)上有獨(dú)到的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

 

采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導(dǎo)入CAD 數(shù)據(jù)CCD相機(jī)定位自動(dòng)激光刻蝕,操作簡(jiǎn)單,方便快捷;采用通過(guò)軟件實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)振鏡與直線電機(jī)、電動(dòng)升降工作臺(tái)的設(shè)計(jì),加上真空吸附托盤(pán)裝置,能有效地解決激光刻蝕加工運(yùn)行中的平穩(wěn)性。


設(shè)備集數(shù)控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機(jī)電高技術(shù)于一體,具有高靈活性、高精度、高速度等先進(jìn)制造技術(shù)的特征??纱蠓秶鷥?nèi)進(jìn)行各種圖案,各種尺寸的精密、高速刻蝕,并且能夠保證很高的產(chǎn)能,是一個(gè)可靠、穩(wěn)定和具有高性能價(jià)格比的產(chǎn)品。

 

主要構(gòu)成:激光器、光路系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)、電控制系統(tǒng)、定位系統(tǒng)、抽塵系統(tǒng)、真吸附空系統(tǒng)、大理石龍門結(jié)構(gòu)、鈑金結(jié)構(gòu)件等。


 

型號(hào)

納秒綠光ET200MG

皮秒綠光

ET300MGPS

皮秒紫外

ET300UV-PS

飛秒紅外

ET300IR-FS

飛秒綠光

ET300MG-FS

實(shí)驗(yàn)室刻蝕機(jī)

ET100IR/ET100MG

激光器

532nm

532nm

355nm

1030nm

515nm

1064/532nm

功率

5/10W

10/15/30W

10/15/30W

20/30/40W

10W

20W/5W

加工尺寸

100*100/200*200/300*300/400*300/600*600/600*900/700*1400mm可選

可定制加工幅面

110*110mm可選

激光器頻率

30-150KHz

1-1000KHz

1-1000KHz

25-5000KHz

25-5000KHz

1-2000KHz/

30-100khz

振鏡

10/14mm通光孔徑

10mm通光孔徑

聚焦鏡

40*40/70*70/110*110mm幅面(根據(jù)不同的應(yīng)用場(chǎng)景選擇)

100-140mm可選

擴(kuò)束鏡

4X

2-8X可調(diào)

1.5X

聚焦光斑

30μm

10μm

50μm

最小線寬

30μm

10μm

50μm

最大可根據(jù)需要可全部去除鍍層材料,如P4清邊處理  

最小線間距

30μm

10μm

50μm

熱影響區(qū)

5μm

3μm


直線度

±10μm

±5μm(最小可至±1μm

±20μm

Z軸電機(jī)行程

50mm(自動(dòng)軟件控制)

手動(dòng)500mm

工作臺(tái)定位精度

±3μm

±20μm

工作臺(tái)重復(fù)精度

±1μm

±20μm

CCD相機(jī)定位精度

±3μm

±10μm

刻蝕速度

最大刻蝕速度4000mm/s(單線)

設(shè)備尺寸/重量

1200*1200*1700mm300*00mm幅面內(nèi)) 1000Kg 納秒                大尺寸及雙光路

1280*1400*1750mm300*300mm幅面內(nèi)) 1800Kg  皮秒/飛秒          電話聯(lián)系

1800*1800*1750mm600*600mm幅面內(nèi)) 2500kg皮秒/飛秒 

1050*700*1660mmL*W*H 300Kg

設(shè)備功耗

2500W

3000W

1500W

設(shè)備文件格式

標(biāo)準(zhǔn)CAD DXF文件

DXF/PLT/JPG

備注:量產(chǎn)后一般采用多種波段激光配合使用,非單臺(tái)機(jī)器完成所有膜層制作。


溫馨提示:我公司提供“樣品免費(fèi)加工”服務(wù),您只需提交以下信息,我們會(huì)有專人與您聯(lián)系。您也可以直接來(lái)電垂詢。服務(wù)熱線:135-4505-0045。

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